গ্লোবাল সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের পরিবেশগত বিধিগুলি 2026 সালে ক্রমাগত কঠোর হচ্ছে, এবং PFAS-শ্রেণীর পদার্থের উপর নিষেধাজ্ঞাগুলি ধীরে ধীরে ওয়েফার ফ্যাবগুলির ভিতরে ব্যবহৃত ভোগ্য সামগ্রীগুলিকে কভার করছে, যার মধ্যে CMP পলিশিং প্যাড রয়েছে৷ প্রথাগত উচ্চ-সম্পদ CMP প্যাডগুলি আংশিকভাবে রাসায়নিক-স্লারি প্রতিরোধ এবং পৃষ্ঠ ভেজা কর্মক্ষমতা বাড়াতে ফ্লোরিন-সংশোধিত উপাদানগুলি গ্রহণ করে। নিয়ন্ত্রক প্রবণতার মুখোমুখি, GaN-ডেডিকেটেড CMP প্যাডগুলির বিকাশকারীদেরকে শক্ত GaN সাবস্ট্রেটগুলির জন্য পলিশিং কার্যকারিতা ত্যাগ না করে পলিউরেথেন সূত্রগুলিকে পুনরায় ডিজাইন করতে হবে।
GaN CMP প্রক্রিয়াগুলি ঘন ঘন জটিল pH পরিবেশ এবং ন্যানো-আকারের ঘষিয়া তুলিয়া ফেলিতে সক্ষম কণা সহ পলিশিং স্লারি গ্রহণ করে। ফ্লোরিন-পরিবর্তিত সংযোজন ছাড়া, পলিউরেথেন প্যাড উপাদানগুলি অপারেশনের সময় রাসায়নিক ক্ষয়, ছিদ্র বাধা এবং পৃষ্ঠের বার্ধক্যের উচ্চ ঝুঁকির সম্মুখীন হয়। উপাদান প্রকৌশলীদের পলিওল-আইসোসায়ানেট ম্যাচিং অনুপাত সামঞ্জস্য করতে হবে, ক্রস-লিংক ঘনত্বকে অপ্টিমাইজ করতে হবে এবং পলিউরেথেন ম্যাট্রিক্সের অ্যান্টি-হাইড্রোলাইসিস এবং অ্যান্টি-ফোলা ক্ষমতা উন্নত করতে হবে, মূলত ফ্লোরিন-ধারণকারী উপাদানগুলির দ্বারা উপলব্ধিকৃত ফাংশনের অংশ প্রতিস্থাপন করতে।
শিল্প প্রতিক্রিয়া নির্দেশ করে যে অনেক প্যাড সরবরাহকারী এখনও PFAS-মুক্ত GaN CMP পণ্যগুলির জন্য নমুনা-পরীক্ষার পর্যায়ে রয়েছে৷ বর্তমান প্রধান চ্যালেঞ্জগুলি তিনটি মূল সূচকের ভারসাম্য বজায় রাখা: উপাদান অপসারণের হার, ত্রুটি-নিয়ন্ত্রণ ক্ষমতা এবং পরিষেবা জীবন। কিছু প্রারম্ভিক-ট্রায়াল ফ্লোরিন-মুক্ত প্যাডগুলি স্বল্প-সময়ের ল্যাব পরীক্ষায় শালীন পৃষ্ঠের গুণমান দেখায়, তবুও ক্রমাগত ফ্যাব অপারেটিং অবস্থার অধীনে পরিধানের গতি স্পষ্টতই ত্বরান্বিত হয়, যা প্রতি ওয়েফারের সামগ্রিক ব্যবহারযোগ্য খরচ বাড়ায়।
আমাদের পলিউরেথেন R&D প্ল্যাটফর্মের উপর ভিত্তি করে, আমরা PFAS-মুক্ত GaN CMP প্যাড তৈরির দিকে ভিত্তিক পরিবর্তিত পলিউরেথেন উপাদানের গ্রেড তৈরি করেছি। পলিমার ব্যাকবোন গঠন সামঞ্জস্য করার মাধ্যমে, আমরা ফ্লোরিন সংযোজন ছাড়াই রাসায়নিক স্থিতিশীলতা বাড়াই। ডাউনস্ট্রিম অংশীদাররা তাদের নিজস্ব প্যাড ডিজাইন অনুযায়ী ছিদ্র গঠনের প্রক্রিয়াকে আরও মেলাতে পারে। আমরা যৌথ যাচাইকরণ সম্পূর্ণ করতে ব্যবহারযোগ্য বিকাশকারীদের সাথে সহযোগিতা চালিয়ে যাব এবং পরবর্তী প্রজন্মের GaN ওয়েফার প্ল্যানারাইজেশনের জন্য পরিবেশ-বান্ধব পলিউরেথেন সমাধানগুলির শিল্প প্রয়োগকে এগিয়ে নিয়ে যাব।